icp-aes的干擾及消除

花開正好

icp-aes的干擾主要包括光譜干擾、物理干擾、化學(xué)干擾與電離干擾。其消除方法包括干擾系數(shù)法、多譜線擬合程序、背景校正技術(shù)、基體匹配法等。
icp-aes的干擾：
1.光譜干擾：
光譜干擾是ICP-AES分析中最常見的問題，主要是由于儀器的色散率和分辨率不足導(dǎo)致元素間的譜線重疊。
此類干擾分為譜線重疊干擾和背景干擾。譜線重疊干擾可以通過選擇分辨率更高的分光系統(tǒng)來減少，而背景干擾則可以通過現(xiàn)代儀器具備的背景校正技術(shù)來扣除。
2.物理干擾：
物理干擾主要涉及溶液的粘度、比重和表面張力等物理性質(zhì)對(duì)分析結(jié)果的影響。
這種干擾可以通過保持標(biāo)準(zhǔn)試液與待測(cè)試樣在基體組成、總鹽度、有機(jī)溶劑和酸的濃度等方面的一致性來減輕。
使用蠕動(dòng)泵進(jìn)樣和內(nèi)標(biāo)校正法也可以補(bǔ)償物理干擾的影響。
3.化學(xué)干擾：
在ICP-AES中，化學(xué)干擾相對(duì)較少，通常可以忽略不計(jì)。
這是由于ICP的高溫和高電子數(shù)密度使得樣品中的化學(xué)鍵很容易被破壞，減少了化學(xué)干擾的可能性。
4.電離干擾：
電離干擾涉及到樣品中易電離元素對(duì)分析結(jié)果的影響。
盡管ICP比其他光源受此影響較小，但在某些情況下仍需優(yōu)化等離子體參數(shù)或使用雙向觀察技術(shù)來減少此類干擾。
icp-aes的干擾消除方法：
1.干擾系數(shù)法：
通過實(shí)驗(yàn)確定干擾元素對(duì)分析元素的影響程度，并計(jì)算干擾系數(shù)。
在知道干擾元素濃度的情況下，可以利用干擾系數(shù)來校正分析結(jié)果。
2.多譜線擬合程序：
當(dāng)存在復(fù)雜譜線重疊時(shí)，單一干擾系數(shù)可能無法準(zhǔn)確校正，此時(shí)需要采用多譜線擬合程序來進(jìn)行更復(fù)雜的校正。
3.背景校正技術(shù)：
利用先進(jìn)的背景校正技術(shù)可以有效扣除由于連續(xù)發(fā)射形成的帶狀光譜疊加在分析線上的背景干擾。
4.基體匹配法：
通過模擬樣品的基體組成，制備與待測(cè)樣品相似的標(biāo)準(zhǔn)溶液，以消除基體效應(yīng)的干擾。
5.標(biāo)準(zhǔn)加入法：
將已知量的標(biāo)準(zhǔn)溶液加入到樣品中，觀察分析信號(hào)的變化，以此來確定樣品中目標(biāo)元素的濃度，可以減少基體效應(yīng)的影響。
6.內(nèi)標(biāo)校正法：
選擇一種與分析元素行為相似的元素作為內(nèi)標(biāo)，對(duì)其進(jìn)行同步測(cè)量，以校正樣品處理過程中可能引入的誤差。
7.分離技術(shù)：
在樣品前處理階段應(yīng)用分離技術(shù)，如萃取、色譜等，以去除或減少干擾物質(zhì)的濃度，減輕或消除基體干擾。

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